Özet:
Günümüz teknolojisinin ilerlemesinde en önemli yapı taşlarından biri olan yarı iletken teknolojilerinin ve malzemelere uygulanan yüzey işlemlerinin temeli, ince film teknolojisidir. İnce film teknolojisinin teknolojik bakımdan bu kadar önemli oluşu, geçmiş ve günümüzde üzerinde çok sayıda bilimsel eser hazırlanmasına ve dolayısı ile de hızla gelişmesini ve yaygınlaşmasını sağlamıştır.Doktora çalışmamızın ana hedefi, doğrudan parça üzerinde ince film NiCr gerinim ölçerlerin üretiminin incelenmesidir. Bu hedefe ulaşırken kullanılacak yol olarak, günümüz teknolojisinde en sık kullanılan ince film üretim yöntemi olan manyetik alanda sıçratma, yarıiletken teknolojilerinde proses gereği en çok tercih edilen ısıl işlem yöntemi olan RTP ve şekillendirme yöntemi olan litografi seçilmiştir. Bu sayede elde edilen deneysel verilerin doğru olması, güncel yöntemlerle örtüşmesi, karşılaştırılabilir olması ve sonraki çalışmalara kaynak sağlayabilecek değerde olması amaçlanmıştır.Çalışmanın deneysel bölümünde literatürde sıkça rastlananın aksine ayrı ayrı hedefler kullanılmış ve iki tabakalı ince filmler elde edilerek Ni-Cr bileşimlerinin doğrudan tabaka kalınlıkları ile arasındaki ilişkiler incelenmiştir. Ayrıca NiCr alaşım hedef kullanılarak üretilen ince filmler ile, tabakalı ince filmlerden bileşimi alaşım hedefinkine yakın olanlar, ısıl işlem sonrası oluşan fazlar bakımından karşılaştırılmıştır. Öte yandan, alaşım hedeften cam üzerinde üretilen ince filmler litografik olarak şekillendirilerek gerinim ölçerler üretilmiş ve doğrudan üretildikleri cam üzerinde elektriksel olarak karakterize edilmiş ve gerinim ölçer olarak incelenmiştir.
