Özet:
Bu çalışmada, toluen/siklohekzan çözücü sistemi kullanılarak süspansiyon polimerizasyonu tekniği ile sentezlenen gözenekli ve çapraz bağlı poli(metil metakrilat) (PMMA) kopolimer tanecikler ile sulu çözeltilerden nikel ve fenol giderimi araştırılmıştır. Kopolimerlerin sentezinde başlangıç monomeri olarak metil metakrilat (MMA), çapraz bağlayıcı monomer olarak etilen glikol dimetakrilat (EGDM) ve seyreltici olarak toluen/siklohekzan karışımları kullanılmıştır. Polimerizasyon sisteminde kullanılan çözücü, çapraz bağlayıcı, başlatıcı ve stabilizör miktarları, reaksiyon sıcaklığı, karıştırma hızı vb. parametreler deney şartlarının optimizasyonu ile belirlenmiştir. Toluen/siklohekzan çözücü sistemi bileşimi ve EGDM oranı değiştirilerek farklı gözenekli yapıya sahip kopolimerler sentezlenmiş ve bu parametrelerin kopolimerlerin gözenekliliğine etkisi araştırılmıştır. Kopolimer tanecikler, yoğunluk, hacimce şişme oranı, ağırlıkça şişme oranı, SEM ve FT-IR ile karakterize edilmiştir. Kopolimer taneciklerin gözenekliliği ve yüzey oluşum şekilleri taramalı elektron mikroskobu (SEM) ile belirlenmiştir. Kesikli olarak gerçekleştirilen sorpsiyon denemelerinde kopolimer taneciklerin Ni(II) iyonu ve fenol tutma kapasiteleri belirlenmiş, Freundlich ve Langmuir izotermlerine uygunluğu araştırılmıştır.
